液相直接剝離法石墨烯研磨分散機

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分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒wan全被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

液相直接剝離法制備石墨烯研磨分散機通常直接把石墨或膨脹石墨（EG)（一般通過快速升溫至1000℃以上把表面含氧基團除去來獲取）加在某種有機溶劑或水中, 借助超聲波、加熱或氣流的作用制備一定濃度的單層或多層石墨烯溶液。Coleman等參照液相剝離碳納米管的方式將石墨分散在N-甲基吡咯烷酮（NMP）中, 超聲1h后單層石墨烯的產(chǎn)率為1%, 而長時間的超聲(462h)可使石墨烯濃度高達1.2mg/mL, 單層石墨烯的產(chǎn)率也提高到4%[17]。 他們的研究表明, 當溶劑的表面能與石墨烯相匹配時, 溶劑與石墨烯之間的相互作用可以平衡剝離石墨烯所需的能量, 而能夠較好地剝離石墨烯的溶劑表面張力范圍為40~50mJ/m2；Hamilton 等[18]把石墨直接分散在鄰二氯苯（表面張力:36.6mJ/m2）中, 超聲、離心后制備了大塊狀（100~500nm）的單層石墨烯；Drzal 等[利用液?液界面自組裝在制備了表面高度疏水、高電導率和透明度較好的單層石墨烯。為提高石墨烯的產(chǎn)率, 近Hou 等發(fā)展了一種稱為溶劑熱插層（solvothermal-asssisted exfoliation）制備石墨烯的新方法（圖2-5），該法是以EG為原料, 利用強極性有機溶劑乙腈與石墨烯片的雙偶極誘導作用（dipoleinduceddipole interaction）來剝離、分散石墨, 使石墨烯的總產(chǎn)率提高到10%~12%。同時, 為增加石墨烯溶液的穩(wěn)定性, 人們往往在液相剝離石墨片層過程中加入一些穩(wěn)定劑以防止石墨烯因片層間的范德華力而重新聚集。

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第yi級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。SID石墨烯研磨設備采用德國先進的高速研磨分散技術，通過超高

轉(zhuǎn)速（可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配GM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。

液相直接剝離法石墨烯研磨分散機設備型號參數(shù)表：