磺胺er甲嘧啶混懸液膠體磨

混懸劑的質量要求是：藥物本身化學性質應穩定，有效期內藥物含量符合要求；混懸微粒細微均勻，微粒大小應符合該劑型的要求；微粒沉降緩慢，口服混懸劑沉降體積比應不低于0.90，沉降后不結塊，輕搖后應能迅速分散；混懸劑的粘度應適宜，傾倒時不沾瓶壁；外用混懸劑應易于涂布，不易流散；不得有發霉、酸敗、變色、異臭、異物、產生氣體或其他變質現象；標簽上應注明“用前搖勻"。 

　　混懸劑一般為液體藥劑，也包括一種干混懸劑。它是將難溶性藥物與適宜輔料制成粉末狀或顆粒狀藥劑，臨用前加水振搖即可分散成混懸液。其主要是有利于解決混懸劑在保存過程中的穩定性問題，并可簡化包裝，便于貯藏和攜帶。 

混懸劑中藥物微粒與分散介質之間存在著固液界面，微粒的分散度較大，使混懸微粒具有較高的表面自由能，故處于不穩定狀態。尤其是疏水性藥物的混懸劑，存在更大的穩定性問題。這里主要討論混懸劑的物理穩定性問題，以及提高穩定性的措施。 

（一）混懸微粒的沉降 

　　混懸劑中的微粒由于受重力作用，靜置后會自然沉降，其沉降速度服從Stokes定律： 

　　按Stokes定律要求，混懸劑中微粒濃度應在2%以下。但實際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外，在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用，阻礙了微粒沉降，故實際沉降速度要比計算得出的速度小得多。由Stokes定律可見，混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質密度差成正比，與分散介質的粘度成反比。混懸微粒沉降速度愈大，混懸劑的動力學穩定性就愈小。 

　　為了使微粒沉降速度減小，增加混懸劑的穩定性，可采用以下措施：①盡可能減小微粒半徑，采用適當方法將藥物粉碎得愈細愈好。這是***的一種方法。

膠體磨廣泛應用在國計民生的各個領域，由于需要適應各種不同工況條件的要求，所以膠體磨的品種繁多數量巨大。我國的膠體磨制造業十分的龐大，膠體磨廠家數以千計，遍布了全國，目前我國已經成為全球膠體磨產量和市場需求量的國家之一。但我國的膠體磨行業大多是中小企業，良莠不齊，年產值超億元的還不到10家，即便與國內其他機械行業相比，無論在裝備上還是技術水平上也存在了很大的差距，真正具有獨立研究開發gao端產品能力的單位非常少，因而在大型核電、石化、油氣長輸管道線等重大工程項目中，配套的膠體磨主要還是依靠進口。

SID磺胺er甲嘧啶混懸液膠體磨，高剪切膠體磨和國產膠體磨全面對比：

①   轉速：

國內設備：目前是不通過變頻器來調節，若通過變頻調節，他們的軸承不能承受高速運轉。一般在3000RPM（這是由于膠體磨的內部結構及精密的程度決定的。）

SID：可以通過變頻調速，轉速可達7890/13789RPM ，通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細度更小)

②   三級結構：

雖然都是三級結構

國內設備：溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣。

SID：溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺。

③   磨頭的結構

國內設備：斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大。

SID： 溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

這樣形成了本質的區別，我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

 
                 
④   線速度（如磨頭的相同直徑）：

國內設備：大約在10-15m/s

SID：可達到23-40m/s

⑤   模塊頭：

國內設備：只有一種模塊頭。

SID：可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，GM膠體模塊，GMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續粉液混合模塊。

⑥   密封形式

國內設備：單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

SID：雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至***低，可24小時不停運轉

⑦   工作腔體方式

國內設備：臥式或立式（馬達一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養復雜，清洗苦難

SID：立式，皮帶驅動，易于維護，可有效保護馬達及齒輪箱，防止損壞符合流體流動原理，易于清洗

⑧   產品效果

國內設備：粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差。

SID：間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工